Während die Shim‑pack XR‑ODSII und XR‑ODS III dieselbe Partikelgröße von 2,2 µm wie die Shim‑pack XR‑Series verwenden, besitzt die XR‑ODSII eine höhere Drucktoleranz von 60 MPa. Dadurch sind hochauflösende Schnellanalysen in einer langen Säule unter Verwendung einer Wasser/Methanol‑mobilen Phase möglich. Diese Säule erweitert den Anwendungsbereich hochauflösender Schnellanalysen erheblich, sodass auch Analysen in der Nähe der Raumtemperatur eingeschlossen werden. Die Shim‑pack XR‑ODSII und XR‑ODS III‑Säulen sind ideal für Nexera UHPLC oder Prominence UFLC. Diese Kombination erzielt sowohl höhere Geschwindigkeit als auch höhere Auflösung.
